APS-100高濃度納米粒度儀

APS-100高濃度納米粒度儀

原理簡(jiǎn)介：

APS 從聲衰減光譜測量產(chǎn)生PSD數據，不需要稀釋樣品。APS還測量粒度范圍的10納米到100微米的樣品的聲音速度譜、pH、電導率和溫度。

當聲音穿越泥漿或膠體時(shí)，是衰減的。衰減的程度與粒度分布有關(guān)。APS可在1 - 100 MHz的頻率范圍內非常準確地測量聲音衰減。因為聲音穿過(guò)所有的物質(zhì)媒介，APS聲音衰減的測量可以在高濃度和/或不透明的樣品中進(jìn)行。粒子沉降并不是一個(gè)問(wèn)題，因為在測量時(shí)樣品可以被攪拌或泵送。APS分析不受樣品的Zeta電勢水平的約束。APS很容易分析零粒子和高電荷。

APS取樣分析是快速和容易的，無(wú)需稀釋樣品。稀釋樣品費時(shí)，容易出錯，并可能改變樣品的實(shí)際PSD。簡(jiǎn)單地倒，或者連續泵送樣品進(jìn)入到APS的樣品室，APS的直觀(guān)的軟件在幾分鐘內做玩余下的工作。

計算詳細PSD數據的技術(shù)，不需要假設PSD形狀。其他類(lèi)型的儀器，例如光散射，意味著(zhù)軟件或操作者假設或猜測PSD是單峰、雙峰、對數正態(tài)或高斯分布的。這種假設可能導致數據不可靠。

專(zhuān)門(mén)的APS硬件設計簡(jiǎn)化了操作，同時(shí)減少維護。這個(gè)設計適合研發(fā)以及重復質(zhì)量控制測量。APS也適合過(guò)程在線(xiàn)操作。

APS-100高濃度納米粒度儀

主要用途：

1)半導體化學(xué)機械拋光(CMP)料漿；

2)陶瓷；

3)油墨；

4)乳劑穩定性；

5)藥品；

6)生物膠體；

7)熒光粉；

8)有機和無(wú)機顏料如Ti02和炭黑；

9)催化劑；

10)礦物；

11)聚合物乳液；

12)水和非水分散體系；

技術(shù)參數：

1)完整的粒度分布,而不是簡(jiǎn)單的平均值和標準偏差大小的數據；

2)不需要稀釋樣品；

3)不需要假設PSD形狀；

4)粒度范圍：0.005-100微米；

5)無(wú)電解質(zhì)干涉；

6)可測量水的/非水的/不透明的/粘性的樣品；

7)可測量縱向粘度，%固體，PH值，電導率，溫度，聲衰減和聲速度譜；

8)具有自動(dòng)滴定選項；

9)專(zhuān)門(mén)技術(shù)：1-100MHz聲衰減譜；

10)溶劑：水/非水；

11)樣品固體%：0.1-60%體積比；

12)樣品體積：標準是120ml，50ml小體積可用；